VP-RS20等离子体刻蚀机采用真空不锈钢腔体等离子清洗装置（CN201821506143.X）技术，对标国际一线厂家，补充国内技术短板，真空腔体不锈钢材质，功率500W，VP-RS20频率13.56MHz，容积20L，能对材料起到清洁、刻蚀、活化、改性的作用，满功率运行3分钟，腔体温度不高于45℃，不损伤样品，适用于半导体刻蚀、芯片刻蚀、碳毯（CF）、微流控芯片PDMS键合、ITO导电玻璃、纤维、单晶硅片、PET、二氧化硅等几乎所有材料的PLASMA处理。
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