技术指标：
1. 腔体结构
1.1. 配置不锈钢STM分析腔，配备离子泵、机械泵、真空规等泵抽系统，背景真空优于1*10-9 mbar
1.2配备不锈钢快速进样室，配备泵抽系统，背景真空优于5*10-8mbar
2 近常压变温扫描头
2.1 最大扫描范围不小于1.0 μm x 1.0 μm（T＞350K）。
2.2 X/Y方向的补偿范围：≥±750nm；Z方向为±115nm；
*2.3 气压工作范围，不小于UHV-100 mbar
*2.4 温度控制范围：UHV条件下，不小于220K-700K，10 mbar压力下， 不小于RT-500K。
*2.5 低温下（150 K< T
*2.6 扫描头机械稳定性（针尖固定位置不动，在恒压恒流模式下，Z中噪音的峰峰值）：< 5 pm。
2.7 配备近常压进气气路
2.8配置温度控制单元和样品转移机械手
3 STM控制器
3.1匹配前放增益1V/nA。
3.2隧穿电流范围：不小于0.01nA–50nA。
*3.3具有快速扫描功能，数据获取速度：不低于1000000像素/秒。
3.4 配备配套软件和数据处理系统一套
4 针尖刻蚀离子源
4.1用于针尖原位处理，离子能量范围最大：不小于5 keV。
4.2离子束流（Ar气）最大值：≥ 20 μA。
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